干法清洗設備產品及廠家

大氣式等離子清潔系統(tǒng)
plasmapen™ 是pva tepla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
更新時間:2025-08-13
條形等離子清潔系統(tǒng)
80 plus 條形等離子清潔系統(tǒng)為半導體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同的配置。即便沒有裝卸站，也可將其集成到生產線中。
更新時間:2025-08-13
ASx 系列清洗設備
suss microtecs asx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節(jié)點提供了先進的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺能夠滿足無損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。
更新時間:2025-08-13
這款紫外臭氧清洗機，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設計，便捷高效，質量有保障，業(yè)服務，是科研與實驗的理想伙伴。
更新時間:2025-08-13
等離子清洗機
lebo science的pt500真空等離子清洗機，作為plasma treatment equipment，具備以下顯著特點：設備小巧，操作便捷：采用一鍵式操控設計，便于在科研院所等實驗環(huán)
更新時間:2025-08-13
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設計，其模塊化控制系統(tǒng)使用新一代處理器，基于 linux 平臺作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (gui)。因此，可支持手動和全自動控制過程，并且通過 mfc 控制過程氣體。在此過程中，所有參數(shù)都被寫入程序并存儲在數(shù)據(jù)庫中。與此同時，當?shù)膲毫χ、氣體流量值、輸出值等都顯示在顯示屏上，如果當值偏離設定值，則會觸發(fā)相應的警報。
更新時間:2025-08-13
CIF 實驗室型等離子清洗機
cif 實驗室型等離子清洗機設備在材料學，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學、生物學等科研域，主要用于材料表面進行清洗、活化、改性等目的。cif推出的新一代等離子體清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。
更新時間:2025-08-13
CIF手套箱用等離子清洗機
cif推出vgb-p系列手套箱用等離子清洗設備，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-08-13
CIF透射電鏡樣品桿清洗機
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-08-13
CIF掃描電鏡等離子清洗機
cif 掃描電鏡（sem）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于sem或fib等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。
更新時間:2025-08-13
UV-300HC 紫外線臭氧清洗設備
uv-300hc是一款高性能的盒式裝載uv臭氧清洗機，用于生產。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（gan、sic、gaas和inp）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-08-13
UV-300H 紫外線臭氧清洗機
uv-300h是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（gan、sic、gaas、inp）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-08-13
UV-1 紫外線臭氧清洗機
uv-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（gan、gaas、inp、sic）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
更新時間:2025-08-13
PC-300 等離子清洗設備
pc-300是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產的各種產品的批量處理。
更新時間:2025-08-13

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