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美國 Nano DeBEE 實驗室用 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機
美國 nano debee 實驗室用 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機,可用于脂質(zhì)體，脂肪乳，混懸劑，分散液，微膠囊，細胞破碎，降低食品、藥物、材料粒徑至納米級等等.高硬度,高粘性物料同樣適合。
更新時間:2025-08-18
美國 Mini DeBEE 中試用 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機
美國 mini debee 中試用 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機的詳細描述： 主要技術(shù)參數(shù)：專利型debee特有的乳化分散均質(zhì)核心件，無活動部件。分散均質(zhì)部件可自行調(diào)控，為您提供廣泛的實驗室應(yīng)用。plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調(diào)背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大處理流量為250ml/min操作樣品標(biāo)準(zhǔn)量為30ml，最小量為10ml配備物料在線冷卻罐電源380v-50hz-3相-4kw容易拆裝和清洗，可被蒸壓滅菌全sus不銹鋼材質(zhì)尺寸：長
更新時間:2025-08-18
美國 DeBEE 2000 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機
美國 debee 2000 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機的詳細描述： 主要技術(shù)參數(shù)：專利型debee特有的乳化分散均質(zhì)核心件。分散均質(zhì)部件可自行調(diào)控，為您提供廣泛的實驗室應(yīng)用。僅一次制程就可使產(chǎn)品達到預(yù)想的處理目標(biāo)plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板二臺同步的增壓腔，保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調(diào)背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大持續(xù)處理流量為1l/min操作樣品標(biāo)準(zhǔn)量為50ml，最小量為10ml配備物料在線冷卻罐電源380v-50hz-3相-7.5k
更新時間:2025-08-18
美國 DeBEE 2000P 生產(chǎn)型 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機
美國 debee 2000p 生產(chǎn)型 新一代改進型超高壓對射流均質(zhì)機的詳細描述： 主要技術(shù)參數(shù)：專利型debee特有的乳化分散均質(zhì)核心件。分散均質(zhì)部件可自行調(diào)控，為您提供廣泛的實驗室應(yīng)用。僅一次制程就可使產(chǎn)品達到預(yù)想的處理目標(biāo)plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統(tǒng)面板多臺同步工作的增壓腔，保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，空間占用小。最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調(diào)背壓：0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大處理流量為2l-100l/min電源380v-50hz-3相-20hp-250hp（
更新時間:2025-08-18

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